纯化水设备
  • 电子半导体用纯水设备
电子半导体用纯水设备
在晶体管、集成电路生产中,纯水主要用于清洗硅片,清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物,另有少量用于药液配制,硅片氧化的水汽源,部分设备的冷却水,配制电镀液等。集成电路生产过程中的80%的工序需要使用高纯水清洗硅片,水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。
产品简介 / Introduction

电子半导体行业用纯水设备

河南万达环保生产的超纯水设备专用于硅片生产等电子半导体行业,能满足客户的用水要求

产品参数 / parameter
电导率 2-10μS/cm(25℃) PH值 6.5-9 水温度 5~35℃
总硬度 <0.5ppm 有机物 <0.5 ppm,TOC为零 氧化物 ≤0.05ppm
铁、锰 <0.01ppm 二氧化硅 <0.05 ppm 二氧化碳 <5ppm
产品特点 / Features

电子半导体行业用纯水设备

  • 01

    连续运行产水质稳定品质更佳。

  • 02

    系统运行可靠性稳定。

  • 03

    运行成本低。

  • 04

    占地面积小。

  • 05

    自动化程度高。

  • 06

    操作及维护简单,无需接触酸碱。

  • 07

    使用安全及环境良好。

  • 08

    无污水排放,无环境污染。

工艺流程 / Process

设备工艺(一)

  • 原水 01
  • 原水加压泵 02
  • 多介质过滤器 03
  • 活性炭过滤器 04
  • 加药装置 05
  • 精密过滤器 06
  • 高压泵1 07
  • 级反渗透 08
  • 中间水箱 09
  • 高压泵2 10
  • 二级反渗透 11
  • 纯化水箱 12
  • 纯水泵 13
  • 紫外线杀菌器 14
  • 微孔过滤器 15
  • 用水点 16

设备工艺(二)

  • 原水 01
  • 原水加压泵 02
  • 多介质过滤器 03
  • 活性炭过滤器 04
  • 加药装置 05
  • 精密过滤器 06
  • 高压泵1 07
  • 级反渗透 08
  • 中间水箱 09
  • 中间水泵 10
  • EDI系统 11
  • 纯化水箱 12
  • 纯水泵 13
  • 紫外线杀菌器 14
  • 微孔过滤器 15
  • 用水点 16