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        在显像管和阴极射线管的生产中，荧光屏内壁采用喷涂或沉淀的方法涂上一层荧光材料。它是由锌或其他金属硫化物组成的荧光粉颗粒，与硅酸钾粘结而成。需要使用超纯水，所以就必须配置超纯水设备。铁含量在50ppb以上会使颜色变浅、变暗、闪光，并会产生气泡、条纹、漏光点等废品。

       在晶体管、集成电路生产中，纯水主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制，硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，配制电镀液等。集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属（K、Na等）会使绝缘膜耐压不良，重金属（Au、Ag、Cu等）会使PN结耐压降低，B、AL、Ga等会使N型半导体特性恶化，水中细菌高温碳化后的磷（约占灰分的20%～50%）会使P型硅片上的局部区域变化为N型硅而导致器件性能变坏。水中的颗粒（包括细菌）如吸附在硅片表面，就会引起电路短路或特性变差。

       以上可以看出电子半导体行业大多是需要用到超纯水设备的，设备制取的超纯水中不含这些杂质，微生物，金属离子等。电阻率可达18兆欧，纯度很高。